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　  工件的拋光時間在很大的程度上關(guān)系著工件不平處的變平的速度以及工件被磨掉的厚度。方達在研磨工件時，一般在開始的時候，被研磨掉的是很劇烈的，如果在繼續(xù)延長研磨的時間，會發(fā)現(xiàn)相對的扁平率的影響就會變小，是無法被研磨拋光掉。

　　工件的拋光的厚度是與時間的長短成正比的，工件的凹陷處和凸起之處被溶解拋光體檢上的差別，會隨著凸起之處的變平而出現(xiàn)減少的現(xiàn)象。

　　平面拋光機中，進行拋光時所耗費的拋光的時間是有一定限制的，對于不同的材質(zhì)，到達工件的拋光效果來設(shè)置具體的時間，時間一到，平面拋光機就會自動的停止運動，所達到的工件的光潔度是極高的。

　　由于平面拋光機與傳統(tǒng)的拋光工藝的作用原理不同，傳統(tǒng)拋光是使用拋光液把工件上的凹陷等瑕疵溶解掉，而方達平面拋光機工作的原理是，所要拋光的工件置于拋光盤之上，然后拋光盤做逆時針的轉(zhuǎn)動，工件實現(xiàn)自轉(zhuǎn)，使用重力加壓的方式對工件進行施壓，這時工件就會與拋光盤做著相對運動的摩擦，從而實現(xiàn)拋光的效果，達到拋光的目的。