在光學(xué)及光電子設(shè)備中，α氧化鋁單晶片因?yàn)槠涓哂捕�、高熔點(diǎn)、良好的透光性及熱傳導(dǎo)性、優(yōu)良的電絕緣性及穩(wěn)定的化學(xué)性能，在光電子系統(tǒng)中得到了廣泛的應(yīng)用。
當(dāng)您需要研磨α氧化鋁單晶片時(shí)，可以采用機(jī)械拋光法、浮法拋光法、超精密拋光法以及機(jī)械化學(xué)拋光法等，這里采用的是錫盤拋光法。 為了充分了解拋光時(shí)間與拋光精度的對(duì)應(yīng)關(guān)系，我們的實(shí)驗(yàn)小組特別就此做了一個(gè)實(shí)驗(yàn)，在溫度、壓力、濃度、主軸轉(zhuǎn)速及工件軸轉(zhuǎn)速等都相同的情況下，僅改變拋光的時(shí)間來測(cè)量工件的粗糙度，從而獲得拋光時(shí)間與表面性能的變化規(guī)律。經(jīng)過前后多次的反復(fù)對(duì)比，我們終于發(fā)現(xiàn)，拋光的時(shí)間越長，工件的粗糙度越小，其表面的性能也就越好。 由此，從這次實(shí)驗(yàn)結(jié)論中可以看出，在拋光α氧化鋁單晶片時(shí)，您的拋光盤若是錫盤，可以通過加長拋光時(shí)間來獲得更加良好的表面性能，不信的話，試試就知道了。 為了幫助廣大客戶更好地使用和維護(hù)研磨拋光設(shè)備，也為了獲得更好的機(jī)器性能，我們將堅(jiān)持不懈，不斷做進(jìn)一步的研究與探討。您若有什么需要或疑問，歡迎您與我們?nèi)〉寐?lián)系。 |
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