| 平面拋光機(jī)加工各種超硬材料，其效果不容置疑的，作為最理想的導(dǎo)彈天線材料的金剛石膜，被要求具有極小的表面粗糙度及極高的平面度，其加工方法相對復(fù)雜。 可以加工這種材料的平面拋光機(jī)方法很多。但純粹使用單一的方法，所加工出來的金剛石膜都存在各自的缺陷。  利用平面拋光機(jī)一般機(jī)械方法可以拋光大面積金剛石膜，效率也較高，卻容易造成金剛石膜表面損傷。這種方法一般用于金剛石膜的粗加工。 離子束拋光、反應(yīng)離子束刻蝕和激光拋光只能對相對較小的金剛石膜進(jìn)行拋光， 使用熱化學(xué)拋光和摩擦化學(xué)拋光，使用這種方法的平面拋光機(jī)可以使拋光后的金剛石膜局部達(dá)到甚至幾個(gè)納米的粗糙度，但整體粗糙度較高，且平面拋光機(jī)拋光過程中較高的壓力與溫度容易造成大面積金剛石膜的破裂和損傷。 總的來講，目前單一的平面拋光機(jī)拋光技術(shù)很難實(shí)現(xiàn)CVD金剛石膜的高效超精密拋光，這個(gè)與平面拋光機(jī)設(shè)備本身無關(guān)。 題中所提到的平面拋光機(jī)復(fù)合加工方法指的是機(jī)械拋光與化學(xué)機(jī)械拋光相結(jié)合的拋光方法。采用游離金剛石磨料對金剛石膜進(jìn)行粗拋光，可以縮短拋光時(shí)間，降低機(jī)械拋光損傷，再用平面拋光機(jī)化學(xué)機(jī)械拋光進(jìn)行精加工，若將磨料粒徑和拋光時(shí)間控制在合適的范圍內(nèi)，可以使CVD金剛石膜的表面粗糙度可以達(dá)到4.5nm以上。 使用復(fù)合加工技術(shù)的加工金剛石膜，除了平面拋光機(jī)外，還有平面研磨機(jī)、鏡面拋光機(jī)、雙面研磨機(jī)等研磨拋光機(jī)。 相關(guān)資訊 進(jìn)行加工中磨料的選用以及處理方法 用來改進(jìn)高分子材料粘結(jié)性能的有效方法 研磨行業(yè)最新研究拋光狀態(tài)的監(jiān)控方法 工件常見的幾種防銹上油的方法 |
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