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精密平面研磨機設(shè)備的高品質(zhì)如何體現(xiàn)：

   深圳市方達研磨設(shè)備有限公司專業(yè)生產(chǎn)平面拋光機,平面研磨機公司憑借豐富的生產(chǎn)管理經(jīng)驗、品質(zhì)管理經(jīng)驗及精湛的技術(shù)隊伍，將全力以赴的協(xié)助各客戶在研磨拋光方面遇到的各種難題，為新老客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品及專業(yè)的服務(wù)。所謂精密研磨機是目前國內(nèi)外將工件的密封面進行研磨加工的主要設(shè)備，其工效比手工研磨高數(shù)十倍。密封面的精度是影響閥門密封性能的關(guān)鍵因數(shù)之一。 研磨機的優(yōu)化設(shè)計理論：工件的運動軌跡是交錯而封閉的曲線，建立運動軌跡方程、軌跡重合周期計算公式、運動軌跡的幾何畫法。通過驗證五因數(shù)的各種數(shù)據(jù)組合方案的運動軌跡，總結(jié)出運動特性，得出設(shè)計研磨機的三種最佳數(shù)據(jù)組合方案。
   為了實現(xiàn)研磨盤工作面各點等速磨損，提高被研磨表面的精度，平面研磨盤和等距槽研磨盤的磨損狀況及其工件的質(zhì)量問題，發(fā)現(xiàn)等距槽研磨盤的工作面呈凹錐面磨損，由此創(chuàng)立新型研磨盤——按等比數(shù)列分布的梯形圓環(huán)槽研磨盤，推導出槽間距的通項公式，簡介了制造方法，給出了設(shè)計實例。試驗結(jié)果表明：工件在研磨速度16.8m/min，被研磨表面為WCrRo堆焊面，硬度為HRc40～50等條件下，研磨能夠達到：粗糙度Ra≤0.4μm，平面度≤4μm，密封壓力～59MPa；新型研磨盤的一次壽命比等距槽研磨盤提高24%，是平面研磨盤的2.8倍；經(jīng)濟效益顯著。研磨工件在研磨運動過程中為變速滑動的規(guī)律，雙面研磨機或平面研磨機的數(shù)表的速度并將研磨的速度方式進行調(diào)節(jié)以求得到更精確的數(shù)值。深圳方達技術(shù)有限公司通過長期的研發(fā)和經(jīng)驗積累所制造出的研磨設(shè)備在國內(nèi)處于領(lǐng)先地位，擁有客戶至尊的服務(wù)理念。