這種化學(xué)拋光主要是讓工件的表面在化學(xué)介質(zhì)中，優(yōu)先的溶解微觀凸出部分的較凹的部分，最終得到比較平滑的表面。 這種方法操作較為簡(jiǎn)單，不需要較為復(fù)雜的設(shè)備，就能夠拋光一個(gè)較為復(fù)雜的工件表面，這種化學(xué)拋光比較平面研磨機(jī)設(shè)備所進(jìn)行的工件表面加工，主要的優(yōu)點(diǎn)在于同時(shí)能夠拋光較多的工件，并且效率比較高。而同時(shí)與之相比，其所達(dá)到的工件精度效果要低，在一定程度破壞了工件表面的化學(xué)性質(zhì)。 進(jìn)行化學(xué)拋光的時(shí)候所存在的核心問(wèn)題主要是拋光液的配制。
電解拋光工件的原理與化學(xué)拋光的原理有相同之處，都是依靠選擇溶解材料的表面微小部分，使其工件表面變得光滑。優(yōu)點(diǎn)在于能夠消除陰極反應(yīng)的影響，效果會(huì)更好，這種拋光其表面會(huì)更加的平整。 |
服務(wù)熱線:0755-26527403
